應(yīng)用領(lǐng)域：
 

　　1.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
 

　　2.離子注入/接觸退火；
 

　　3.金屬合金；
 

　　4.熱氧化處理；
 

　　5.化合物合金(砷化鎵、氮化物等)；
 

　　6.多晶硅退火；
 

　　7.太陽(yáng)能電池片退火；
 

　　8.高溫退火；
 

　　9.高溫?cái)U(kuò)散。
 

　　設(shè)備說(shuō)明：
 

　　快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。
 

　　真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進(jìn)行快速熱處理。
 

　　加熱室：加熱室以多個(gè)紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
 

　　進(jìn)氣系統(tǒng)：真空腔室尾部有進(jìn)氣孔，精確控制的進(jìn)氣量用來(lái)滿(mǎn)足一些特殊工藝的氣體需求。
 

　　真空系統(tǒng)：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時(shí)避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。
 

　　溫度控制系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
 

　　氣冷系統(tǒng)：真空腔室的冷卻是通過(guò)進(jìn)氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體，來(lái)加速冷卻被熱處理的工件，滿(mǎn)足工藝使用要求。
 

　　水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。